Cap. 6 Fundamentos de electrónica

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144 Terms

1
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Los semiconductores.

Son materiales que comparten características con las de un conductor y un aislador.

2
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el diodo.

Es un dispositivo de 2 terminales que en una situación ideal se comporta como un interruptor común, con la condición especial de que solo puede conducir en una dirección.

3
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el diodo.

Tiene un estado encendido, el que en teoría parece ser simplemente un circuito cerrado entre sus terminales y un estado apagado en el que sus características terminales son similares a las de un circuito abierto.

4
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La corriente del diodo [flujo convencional]

Solo puede pasar en la dirección de la flecha que aparece en el símbolo.

5
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El material tipo n

Es un material semiconductor como Silicio o Germanio excesivamente dopado con cargas negativas (electrones).

6
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Región de agotamiento.

Se conoce como la región cerca de la unión definida por los iones positivos y negativos.

7
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la resistencia de las caracteristicas.

Se incrementa a medida que a curva se vuelve más y más horizontal.

8
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Método alternativo de determinar la resistencia ca de un diodo.

La derivada de una función en un punto, es igual a la pendiente de una línea tangente trazada en dicho punto.

9
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La polaridad inversa a través del diodo.

Se le llama así a las cargas negativas del material tipo N que son atraídas hacia el potencial positivo y los huecos positivos del material tipo P hacia el potencial negativo.

10
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Corriente de saturación inversa.

Es la corriente en el diodo cuando se invierte la polarización.

11
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Ecuación para la resistencia dinámica de ca en esa región.

Se determina la derivada de la ecuación general para el diodo semiconductor con respecto a la polarizacion directa aplicada y luego se invierte el resultado.

12
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La corriente del diodo en la ecuación.

Implica que la resistencia dinámica o de ca puede hallarse tan solo con sustituir de los valores estables cd de:

13
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El punto de operación.

Determina la resistencia estática o de cd de un diodo.

14
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Resistencia dinámica.

Existe una corriente máxima que puede pasar a través del dispositivo en su estado de conducción antes de que se dañe y se destruyan sus características.

15
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El Silicio.

Puede manejar niveles de corriente y potencia mucho más altos que el Germanio.

16
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Voltaje de encendido.

Indica que se debe aplicar una polarización directa mayor que este voltaje antes de alacanzar el estado de conducción.

17
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Potencial zener.

Se le llama asi a la abrupta caída vertical de las características en Vz.

18
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Potencial Zener.

Se debe a la ruptura de la barrera iónica en la unión a potenciales altos aplicados.

19
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La resistencia dinámica.

Que determina la forma de la curva en la región de interés.

20
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No conducción.

Cualquier voltaje de polarización directa de menos de 0.7 V producirá un modo de:

21
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O.L.

Se puede comprobar con rapidez la condición de un diodo, normalmente revela un dispositivo en buen estado.

22
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VOM

La sección del ohmetro de un _________________ también se puede usar para determinar la condicion de un diodo .

23
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Instrumento llamado trazador de curvas.

Puedes mostrar las características de un diodo en una pantalla para fines de comparación y verificación.

24
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Disipadores de calor.

Existen algunos dispositivos semiconductores capaz de manejar cientos de ampares de potencia pero requieren el uso de:

25
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Un elemento dañado.

Una corriente alta o muy baja en ambas direcciones indica:

26
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Un punto

Una banda

Un pequeño simbolo del diodo.

La dirección de la conducción del diodo se puede determinar con:

27
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El diodo Zener.

Es un diodo que aprovecha al máximo la región de avalancha

28
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Un generador de onda cuadrada simple.

Se puede desarrollar usando 2 diodos colocados espalda con espalda.

29
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Un diodo semiconductor con polarización directa.

Con voltajes menores que V= 0V el diodo Zener tiene la característica de:

30
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Regulador Zener.

Aplicación más común del diodo Zener.

31
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La magnitud de Iz.

Debe determinarse mediante la aplicación de la ley de la corriente de kirchhoff.

32
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Caracteristica de resistencia negativa.

Dentro de las caracteristicas del diodo tunel, se refiere a la region mostrada como una linea gruesa y oscura.

33
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Diodo tunel.

Se deriva de la acción de túnel del dispositivo a un nivel potencial particular.

34
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El diodo túnel.

También es un dispositivo semiconuctor de dos capas.

35
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La resistencia negativa.

Se usa en osciladores (generadores de ondas senoidales).

36
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La capacitancia entre sus terminales.

Depende del voltaje de polarización inversa aplicado a través del dispositivo.

37
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El diodo Varicap o Varactor.

Tambien es un diodo semiconuctor de dos capas, la capacitancia entre sus terminales depende del voltaje de polarización inversa a través del dispositivo.

38
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20 V

Es el rango normal de Vr para diodos VVC limitado a :

39
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Silicio

Normalmente es el material utilizado en los diodos Varicap.

40
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El diodo varicap.

Se usa en sistemas de control, redes de sintonizacion, filtros variables y sistemas de FM.

41
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El Selenio y el Silicio.

Son los materiales de uso mas frecuentes en la fabricación de las celdas solares.

42
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El termistor.

Es una resistencia de dos electrodos cuya resistencia terminal depende de su temperatura.

43
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Coeficiente de temperatura negativo.

La resistencia disminuye al incrementarse la temperatura y no a la inversa.

44
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La temperatura del dispositivo.

Se puede modificar ya sea cambiando la corriente que circula a traves del mismo, o calentando su superficie mediante el dio circundante o inmersión.

45
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Alfa.

Las Corrientes de emisor y colector están relacionadas por el factor de amplificación a corto circuito llamado:

46
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Beta.

Las Corrientes de base y colectores están relacionadas por un factor llamado:

47
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0.98 a 0.995

Generalmente Alfa se encuentra en el rango:_____________el valor muy proximo al factor unitario empleado en la ecuacion Ic=Ie

48
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Configuración de emisor común.

Una configuración de transistor que aparece con más frecuencia que la base común o colector común se llama:

49
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Que se invierta la polarización de cd.

Qué se requiere para el cambio de un transistor PNP a uno NPN.

50
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El transistor.

Se considera como un dispositivo amplificador controlado por corriente.

51
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La configuración seguidor emisor.

Se emplea para acoplar impedancias.

52
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Valores nominales máximos para cada configuración de transistor.

Voltaje máximo de colector a emisor (Vce)

Corriente máxima de colector (Ic)

Disipación máxima de potencia PD= VceIc

53
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Salidas distorsionadas (No lineales).

No se deben seleccionar valores de Vce menores que el valor de saturación Vce sat, con el fin de evitar:

54
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FET

Transistor de efecto de campo.

55
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Portadores libres.

La región de agotamiento no puede soportar el flujo de carga debido a la falta de:

56
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MOSFET

Transistor de efecto del campo metal-óxido-semiconductor metálico.

57
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La construcción básica de los dispositivos MOSFET.

Es un poco mas comleja que la de los dispositivos JFET.

58
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El termino incremental.

Se deriva del hecho de que sin polarización en la compuerta (Vgs=0V), no hay canal para la conducción entre el drenaje y la fuente.

59
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Unijunction transistor UJT.

El transistor de monounion.

60
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Unijunction transistor UJT

Es un dispositivo de 3 terminales cuya construcción básica consta de 2 contactos B1 y B2 conectados a una placa de Silicio tipo N con unión PN entre una conexión de Aluminio y el material tipo N.

61
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El rectificador controlado de silicio (SCR).

Es un dispositivo semiconductor de 4 capas y tiene solo 3 terminales externas.

62
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Proceso Fotolitografico.

El equipo aplica automáticamente un lavado de alta presión, un proceso de deshidratación, el recubrimiento de fotóresis y un horneado blando un equipo similar enseguida se desarrolla y hornea en duro la obleas.

63
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El SCR.

Es un rectificador controlado de Silicio cuyo estado (circuito abierto o circuito cerrado equivalente), es controlado por una tercera terminal Llamada Compuerta.

64
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Impresión por proyección.

Emplea la óptica para descubrir las diversas regiones.

65
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La corriente de retención (Ih).

Es el valor de la corriente debajo del cual el SCR cambia de la región de conducción a la región de bloqueo.

66
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Impresión por proyección.

La ventaja de este metodo es que la mascarilla no puede introducir contaminantes en la superficie de la oblea.

67
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Encapsulado del SCR.

Está compuesto por ánodo, cátodo y compuerta.

68
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Metalización.

Una mascarilla final expone a las regiones de cada elemento en el cual ha de formarse un contacto metálico.

69
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El DIAC

Es un dispositivo semiconductor de 5 capas y 2 terminales

70
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La evaporación y la sublimación.

Son los 2 métodos aplicados con más frecuencia para establecer la capa uniforme del material conductor.

71
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El optoaislador.

Es un encapsulado que contiene tanto un LED infrarrojo, un fotodetector, como un transistor diodo de Silicio o SCR.

72
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La técnica de sublimación.

Con este método se logra por tanto una capa más uniforme sobre las uniones abruptas.

73
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El optoaislador.

Hay una capa aislante transparente interna entre el conjunto de elementos de la estructura (o visibles) que dejan pasar la luz.

74
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Método de evaporación.

En este método el metal se funde ya sea mediante el uso de bobinas de calentamiento o es bombardeado con una pistola de electrones para evaporar el metal fuente.

75
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Optoaisladores.

Se diseñan con tiempos de respuesta tan pequeños que pueden usarse para transmitir datos en el rango de Megahertz Mhz.

76
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Pasivación.

Se aplica una capa de 2000 a 5000 A de vidrio (plasma de nitruro de Silicio) para reducir aún más el problema de degradación.

77
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Transistor de monounión programable PUT.

Es un dispositivo PNPN de 4 capas con una compuerta conectada directamente a una de las capas tipo N.

78
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Encapsulado.

Una vez que se completan los procesos de metalización y prueba la oblea debe separarse en microcircuitos individuales.

79
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Rb1 y Rb2 en el UJT.

Representa la resistencia del volumen y de los contactos de base ohmica del dispositivo.

80
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Circuitos integrados de película delgada y gruesa.

No se forman dentro de una oblea semiconductora sino en la superficie de un sustrato aislante como vidrio o un material cerámico apropiado.

81
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Proceso de refinación zonal

Cristal policristalino.

Las materias

82
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Solo elementos pasivos (resistores capacitores).

Qué elementos se forman mediante las técnicas de película delgada y gruesa en la superficie aislante.

83
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En el mono cristal deseado.

En este los átomos se acomodan en una red cristalina, simétrica y uniforme.

84
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Elementos activos (transistores diodos).

Se añaden como elementos discretos a la superficie de la estructura después de que se formaran los elementos pasivos.

85
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cristal policristalino.

En este cristal los átomos se acomodan a azar.

86
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Circuito de película delgada.

Emplea una técnica de evaporación o de sublimación por cátodo.

87
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Aparato para el proceso de refinación zonal.

Se compone de un contenedor (bote) de cuarzo grafito para que la contaminación sea mínima, un tubo de cuarzo y un juego de bobinas de inducción de radiofrecuencia RF.

88
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Circuito de película gruesa.

Emplea técnicas de pantalla de seda.

89
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proceso de refinación zonal.

En este proceso se coloca una barra de germanio en el bote con las bobinas en un extremo del tubo y luego se aplica la señal de radio frecuencia a la bobina la cual induce a un flujo de carga en el lingote de Germanio (Corrientes parásitas).

90
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El uso de elementos discretos.

Incrementa la flexibilidad de diseño de los circuitos de película delgada o gruesa.

91
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Técnica Czochralski

Mediante que técnica se logra la formación de un solo Cristal de Germanio o Silicio.

92
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Circuitos integrados híbridos.

Son circuitos integrados compuestos de varios microcircuitos y también aquellos formados mediante una combinación de las técnicas de circuitos integrados de película y monolíticos.

93
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Los diodos semiconductores.

Los dedos semiconductores normalmente son de uno de los siguientes tipos:

de crecimiento de la unión, de aleación de difusión o de crecimiento epitaxial.

94
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Un fotón de energía luminosa.

En esta región pueden chocar con un electrón de Valencia e impartirle suficiente energía para que abandone su átomo.

95
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Corrientes altas y por tanto tinen potencias nominales altas.

El área de los diodos de crecimiento de unión es lo suficientemente grande para manejar:

96
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La generación de electrones y huecos libres.

Es el resultado de que un fotón de energía luminosa en esta región puede chocar con un electrón de Valencia e impartirle suficiente energía para que abandone su átomo.

97
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El área grande.

Introduce efectos capacitivos de unión indeseados

98
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Los dispositivos fotoconductores.

Reaccionan a la luz incidente en una superficie particular del elemento.

99
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El proceso de aleación.

Produce un diodo semiconductor de unión que también tiene una alta capacidad de corriente y un valor nominal de PIV grande.

100
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La temperatura del dispositivo.

Se puede modificar ya sea cambiando la corriente que circula a través del mismo o calentando su superficie mediante el medio circundante o inmersión.

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